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近年来，随着第五代移动通信、大数据、人工智能等新一代信息技术的出现，新型显示与超高清视频、柔性、传感、印刷电子等技术交叉融合，丰富了新型显示产品体系。光刻胶作为显示行业的关键材料，其技术发展备受行业关注。
光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射，溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。该材料种类众多，也是目前光刻工艺中的关键材料，主要应用于显示面板、印刷电路板、集成电路三大领域。 近日，光刻胶价格上涨的消息引发了韩国半导体行业的高度关注。据韩媒The Elec报道，日本住友化学子公司东友精密化学（Dongwoo Fine-Chem）通知韩国半导体公司，表示由于原材料和劳动力费用不断上涨，KrF 和 L 系列光刻胶供货价格将上涨 10%-20%。
据悉，目前光刻胶市场主要由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等主要制造商主导。本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。
从技术角度看，光刻胶行业专业化要求较高，涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业机密。据SEMI数据统计，随着先进制程工艺不断演进，所需要的刻蚀次数也逐渐增多，从65nm制程的20次增加至5nm制程的160次，复杂度提升了8倍，显著提高了对光刻胶的需求。同时，满足客户要求和生产线的调整也需要1到3年的验证，这也让客户难以转移现有合作的光刻胶公司。
综上所述，巨大的技术壁垒，外加从实验室试验到市场生产对纯度和性能的需求，使得整个产品开发过程既耗时又复杂。面对不断上涨的光刻胶价格，晶圆代工厂内部人士表示，东友精密化学提高光刻胶价格，可能会导致晶圆代工厂和无晶圆厂行业的盈利能力下降。对此，晶圆代工厂别无选择，只能将部分成本转嫁给客户（无晶圆厂公司）。
在对国内厂商的影响方面，商显世界查阅相关资料了解到，目前国内PSPI行业起步较晚，在研发、生产以及应用方面远落后于日本、美国等国家，且面板光刻胶中的树脂、光引发剂国产化率较低，主要由国外厂商垄断。
虽然目前国内厂商通过技术研发已经能提供部分低端面板光刻胶，但在以东友精密化学KrF和L系列光刻胶为代表的高端产品仍依赖国外。因此长远来看，国外厂商光刻胶高端产品价格上涨或为国内厂商带来压力。
就长期发展来看，国内这一市场的发展仍被业内看好。根据Reportlinker数据及预测，2019-2026年中国大陆光刻胶市场规模将由81亿元提升至153亿元，对应CAGR约为9.5%，保持着全球最快的增速。 显示用光刻胶方面，伴随着显示终端市场的回暖，2023年中国大陆显示用光刻胶市场规模将有所回升，根据TrendBank预测，对应市场规模为106.2亿元，同比增长10.29%。
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